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马斯克：大概两到三年内 中国就能依靠光刻技术与芯片制造补齐算力缺口
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特斯拉CEO埃隆・马斯克9月23日接受记者采访时表示，中国的AI大模型，整体而言非常出色。单位算力产出的性能，几乎是全球顶尖水平。“我认为中国解决算力问题的速度，会比大多数人预想得更快。粗略估计，大概两到三年内，中国就能依靠光刻技术与芯片制造补齐算力缺口。”
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马斯克：大概两到三年内 中国就能依靠光刻技术与芯片制造补齐算力缺口，原始来源为财联社，发布时间为2026-09-23T13:29:00。特斯拉CEO埃隆・马斯克9月23日接受记者采访时表示，中国的AI大模型，整体而言非常出色。单位算力产出的性能，几乎是全球顶尖水平。“我认为中国解决算力问题的速度，会比大多数人预想得更快。粗略估计，大概两到三年内，中国就能依靠光刻技术与芯片制造补齐算力缺口。”相关主题：算力芯片。来源：主线罗盘，链接：https://www.ai-gupiao.com/news/107821。仅供研究学习参考，不构成投资建议。
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财联社
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