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阿斯麦CEO：High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产
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《科创板日报》15日讯，阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫·富凯表示，公司为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）所设计的光刻改进方案已得到验证，成像效果极佳，分辨率非常出色。目前公司正与客户合作，以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称，阿斯麦将与客户密切配合，确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计，High-NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。
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阿斯麦CEO：High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产，原始来源为财联社，发布时间为2025-12-15T10:04:21。《科创板日报》15日讯，阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫·富凯表示，公司为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）所设计的光刻改进方案已得到验证，成像效果极佳，分辨率非常出色。目前公司正与客户合作，以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称，阿斯麦将与客户密切配合，确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计，High-相关主题：半导体设备与材料。来源：主线罗盘，链接：https://www.ai-gupiao.com/news/25771。仅供研究学习参考，不构成投资建议。
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