广州：集聚发展光掩膜、光刻胶、电子气体、高纯靶材、大硅片等制造材料生产线

广州：集聚发展光掩膜、光刻胶、电子气体、高纯靶材、大硅片等制造材料生产线，原始来源为财联社，发布时间为2026-01-13T12:05:18。《广州市关于“十五五”时期全链条推动集成电路产业高质量发展的若干政策（征求意见稿）》 公开征求意见。其中提到，着眼补齐产业链短板，集聚发展光掩膜、光刻胶、电子气体、高纯靶材、大硅片等制造材料生产线及其产业上下游，培育光刻、刻蚀、离子注入、沉积、清洗、检测设备等制造设备龙头企业。相关主题：算力芯片。来源：主线罗盘，链接：https://www.ai-gupiao.com/news/37661。仅供研究学习参考，不构成投资建议。