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我国首台串列型高能氢离子注入机成功出束

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中核集团1月17日透露,由中核集团中国原子能科学研究院自主研制的我国首台串列型高能氢离子注入机(POWER-750H)近日成功出束,核心指标达到国际先进水平。这标志着我国已全面掌握串列型高能氢离子注入机的全链路研发技术,攻克了功率半导体制造链关键环节,为推动高端制造装备自主可控、保障产业链安全奠定坚实基础。离子注入机与光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备并称为芯片制造“四大核心装备”,是半导体制造不可或缺的“刚需”设备。此次高能氢离子注入机的成功研制,是核技术与半导体产业深度融合的重要成果,将有力提升我国在功率半导体等关键领域的自主保障能力,更为助力“双碳”目标实现、加快形成新质生产力提供强有力技术支撑。

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我国首台串列型高能氢离子注入机成功出束,原始来源为财联社,发布时间为2026-01-17T13:19:36。中核集团1月17日透露,由中核集团中国原子能科学研究院自主研制的我国首台串列型高能氢离子注入机(POWER-750H)近日成功出束,核心指标达到国际先进水平。这标志着我国已全面掌握串列型高能氢离子注入机的全链路研发技术,攻克了功率半导体制造链关键环节,为推动高端制造装备自主可控、保障产业链安全奠定坚实基础。离子注入机与光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备并称为芯片制相关主题:算力芯片。来源:主线罗盘,链接:https://www.ai-gupiao.com/news/40591。仅供研究学习参考,不构成投资建议。

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