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光刻机、光刻胶概念异动拉升 国风新材4天2板
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光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升，国风新材直线涨停，走出4天2板，永新光学、洪田股份、华懋科技、京华激光、华融化学等快速跟涨。消息面上，招商证券指出，AI服务器需求爆发正驱动DRAM与逻辑芯片资本开支高增，预计2026年全球晶圆前道制造设备（WFE）市场规模将突破1300亿美元并创历史新高，增长率有望达20%以上。
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光刻机、光刻胶概念异动拉升 国风新材4天2板，原始来源为财联社，发布时间为2026-02-13T10:01:00。光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升，国风新材直线涨停，走出4天2板，永新光学、洪田股份、华懋科技、京华激光、华融化学等快速跟涨。消息面上，招商证券指出，AI服务器需求爆发正驱动DRAM与逻辑芯片资本开支高增，预计2026年全球晶圆前道制造设备（WFE）市场规模将突破1300亿美元并创历史新高，增长率有望达20%以上。相关公司：华融化学（301256）；相关主题：半导体设备与材料。来源：主线罗盘，链接：https://www.ai-gupiao.com/news/55435。仅供研究学习参考，不构成投资建议。
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财联社
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