电子行业：集成电路制造的光刻蓝本－光掩模及空白掩模行业研究250903

<p style="text-indent:32px"><span style="letter-spacing: 0px; font-size: 16px;"><span style="">掩膜版（</span><span style="">Photomask）又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩模用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的工具，具有资本密集、技术密集的特点。</span></span></p><p style="text-indent:32px"><span style="letter-spacing: 0px; font-size: 16px;">&nbsp;光掩模是由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构。掩膜基板又分为苏打掩膜基板和石英掩膜基板，是制作微细光掩膜图形的感光空白板。</span></p><p><br/></p>