🧭 先看这份研报的核心结论

通用设备中的光刻机环节正从成熟制程国产替代，走向高端突破预期升温，行业规模虽短期波动，但中期扩张趋势更明确。

📌 核心要点

中国光刻机市场2025年降至12.6亿元，但2030年预计升至136.5亿元。

国产整机与光学、光源等部件持续突破，28nm验证推进，自主配套能力增强。

高端领域仍被海外寡头主导，进口依赖高企，倒逼本土研发和产业协同提速。

💡 为什么需要继续看

一方面2025年市场规模同比收缩，另一方面中长期预测陡增，行业正处预期重估窗口。

国产EUV研发时间表被提前讨论，叠加AI芯片、汽车电子扩产，验证节点明显增多。

⚠️ 风险提示

28nm验证若进展慢于预期，整机放量和产业链配套节奏都可能被拖延。

EUV原型机距量产仍远，若关键光学和光源迟迟不过关，远期扩容或落空。

# 关键词

光刻机 国产替代 28nm验证 EUV突破 光学系统 光源系统

📊 关键数据

行业市场规模

12.6亿元

2025年，同比收缩16.6%

2030年市场规模预测

136.5亿元

2026E-2030E年均复合增长率70.5%

光刻机进口额

105.7亿美元

2025年，同比增长12.7%

ASML中国大陆收入占比

42%

2024年，较2023年的26%继续提升

📌 接下来重点跟踪什么

28nm ArF浸没式光刻机验证进展，是否从测试走向稳定交付。

光学物镜、准分子激光光源等关键部件的良率、寿命和配套能力。

2028至2030年国产EUV原型机测试、应用落地和量产节奏变化。

📄 研报内容摘录

通用设备中的光刻机环节正从成熟制程国产替代，走向高端突破预期升温，行业规模虽短期波动，但中期扩张趋势更明确。；中国光刻机市场2025年降至12.6亿元，但2030年预计升至136.5亿元。