半导体设备与材料 · 光刻/涂胶显影
光刻/涂胶显影：边缘映射走强
光刻/涂胶显影表面上涨来自边缘股，watch的奥普光电+10.0%、福晶科技+1.94%，但核心芯源微-4.83%、重要盛美上海-6.51%。
证据与关系
芯源微（688037.SH）
在该事实中承担primary证据角色。
盛美上海（688082.SH）
在该事实中承担contrast证据角色。
奥普光电（002338.SZ）
在该事实中承担support证据角色。
继续核对相关证据
内容仅供研究学习参考，不构成投资建议。
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