半导体设备与材料 · 光刻/涂胶显影

光刻/涂胶显影近3个观察日主线趋势

光刻/涂胶显影近3个观察日主线趋势覆盖3个观察日、3条已审核事实；增强0条、减弱3条、风险0条、中性0条。

更新日期：2026-07-18

多日变化

增强0条、减弱3条、风险0条、中性0条

3条已审核事实

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -10.23% ，下跌占比 100% 。

2026-07-17 · negative · strong

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -5.15% ，下跌占比 100% 。

2026-07-16 · negative · strong

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -5.84% ，下跌占比 100% 。

2026-07-15 · negative · strong