半导体设备与材料 · 光刻/涂胶显影

光刻/涂胶显影 2026-W27周主线趋势

光刻/涂胶显影 2026-W27周主线趋势覆盖5个观察日、5条已审核事实；增强2条、减弱3条、风险0条、中性0条。

更新日期：2026-07-06

多日变化

增强2条、减弱3条、风险0条、中性0条

5条已审核事实

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -2.44% ，下跌占比 80% 。

2026-07-03 · negative · medium

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -6.77% ，下跌占比 100% 。

2026-07-02 · negative · strong

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -4.27% ，下跌占比 80% 。

2026-07-01 · negative · strong

光刻/涂胶显影整体升温，平均涨幅 8.63% ，上涨占比 80% 。

2026-06-30 · positive · strong

光刻/涂胶显影整体升温，平均涨幅 2.24% ，上涨占比 60% 。

2026-06-29 · positive · medium