半导体设备与材料 · 光刻/涂胶显影

光刻/涂胶显影 2026-W29周主线趋势

光刻/涂胶显影 2026-W29周主线趋势覆盖5个观察日、5条已审核事实；增强0条、减弱4条、风险0条、中性1条。

更新日期：2026-07-18

多日变化

增强0条、减弱4条、风险0条、中性1条

5条已审核事实

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -10.23% ，下跌占比 100% 。

2026-07-17 · negative · strong

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -5.15% ，下跌占比 100% 。

2026-07-16 · negative · strong

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -5.84% ，下跌占比 100% 。

2026-07-15 · negative · strong

光刻/涂胶显影当日无明显主题级事实变化。

2026-07-14 · neutral · neutral

光刻/涂胶显影整体降温，平均涨幅 -4.04% ，下跌占比 80% 。

2026-07-13 · negative · strong