龙图光罩（688721）：聚焦高端，龙图耀芯

龙图光罩(688721) 　　投资要点 　　短期盈利承压不改长期向好态势。2025年全年公司实现营业收入2.47亿元，营收规模与上年同期基本持平，实现归母净利润0.56亿元；2026Q1实现营业收入0.62亿元，同比增长14.00%，经营实现良好开局，核心源于公司持续深耕核心客户、订单储备持续扩容，叠加珠海工厂逐步批量供货带动整体收入有序扩张，净利润阶段性承压主要系稳固客户采取适度让利、珠海新厂爬坡阶段折旧成本较高所致，随着后续产品结构持续优化、珠海产能利用率不断提升，公司盈利水平具备持续改善空间。 　　掩模版技术持续突破，制程迭代拓宽应用空间。公司深耕高精度半导体掩模版赛道，持续引进先进设备、攻坚核心工艺，自主研发形成覆盖CAM、光刻、检测三大环节的多项关键技术，包含图形补偿OPC、精准对位标记、光刻制程管控、精细曝光控制、缺陷修补净化等核心工艺；同时前瞻布局前沿技术，自主突破电子束光刻套刻、PSM相移掩模技术，能够匹配模拟IC高端芯片高精度、高可靠生产标准，深度贴合功率半导体、汽车电子行业发展需求。现阶段公司已实现90nm工艺节点掩模版稳定量产，技术与产能跻身国内第三方掩模厂商第一梯队；后续待客户送样验证落地，公司将推进65nm制程量产，覆盖射频芯片、MCU芯片、DSP芯片等多元场景应用，持续拉近与行业龙头差距，巩固自身核心技术壁垒。 　　定增进展顺利，打开公司长期成长空间。公司于7月20日收到上交所出具的定增审核意见，认定本次向特定对象发行股票申请符合各项发行、上市及信披要求，相关申报材料已报送证监会开展注册流程。本次募投高端掩模版产线项目总投资19.54亿元，计划投入募集资金14.60亿元，资金缺口由公司自有及自筹资金补足；项目由全资子公司落地珠海，与现有珠海厂区形成区位协同布局。项目规划建设40nm-28nm制程高端半导体掩模版产线，建成达产后年新增产能15,000片，产品矩阵新增KrF-PSM、ArF-PSM、OMOG等高阶掩模品类，丰富高端产品供给适配下游客户需求。项目落地可填补国内40nm-28nm制程掩模版供给缺口，提速高端工艺研发与技术成果转化，全方位拔高公司技术壁垒、产能体量与整体综合竞争力。此外，该项目还将有效填补国内高端光掩模版的市场缺口，推动我国半导体产业链的协同发展，加速半导体材料的国产化进程，为我国集成电路产业的高质量发展提供坚实支撑。 　　投资建议 　　我们预计公司2026/2027/2028年分别实现收入3.3/4.5/5.9亿元，归母净利润0.6/1.0/1.5亿元，首次覆盖给予“买入”评级。 　　风险提示 　　市场竞争加剧风险；产品迭代风险；供应商较为集体风险；原材料价格波动风险；汇率波动风险。