拓荆科技 研报解读 - 东海证券

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AI引用摘要:拓荆科技(688072):公司深度报告:深耕薄膜沉积技术护城河,打造混合键合第二增长极。相关公司:拓荆科技(688072.SH)。研报来源:东海证券。拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备龙头企业,产品覆盖PECVD、ALD、SACVD等全系列设备,广泛应用于中芯国际、长江存储等主流晶圆厂 来源:秒懂研报,链接:https://www.ai-gupiao.com/research/summary/29575。本文仅供研究学习参考,不构成投资建议。

来源:秒懂研报 类型:研报解读 更新:2026-01-28 01:34

拓荆科技(688072):公司深度报告:深耕薄膜沉积技术护城河,打造混合键合第二增长极

AI智能解读,3分钟读懂机构研报要点。
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拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备龙头企业,产品覆盖PECVD、ALD、SACVD等全系列设备,广泛应用于中芯国际、长江存储等主流晶圆厂
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拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备龙头企业,产品覆盖PECVD、ALD、SACVD等全系列设备,广泛应用于中芯国际、长江存储等主流晶圆厂
核心优势: 薄膜沉积设备工艺覆盖率国内第一,支持逻辑和存储芯片约100多种工艺应用 设备稳定性达国际水平,平均机台运行时间(Uptime)超过90% 前瞻布局混合键合设备,已获重复订单并进入产业化阶段
逻辑要点 薄膜沉积设备是集成电路制造核心环节,占晶圆制造设备市场约22%份额
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逻辑要点 薄膜沉积设备是集成电路制造核心环节,占晶圆制造设备市场约22%份额
中国大陆市场规模约102亿美元,但国产化率不足20%,替代空间巨大
# 关键词
拓荆科技(688072):深耕薄膜沉积技术护城河,打造混合键合第二增长极
📄 研报内容摘录
拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备龙头企业,产品覆盖PECVD、ALD、SACVD等全系列设备,广泛应用于中芯国际、长江存储等主流晶圆厂;核心优势: 薄膜沉积设备工艺覆盖率国内第一,支持逻辑和存储芯片约100多种工艺应用 设备稳定性达国际水平,平均机台运行时间(Uptime)超过90% 前瞻布局混合键合设备,已获重复订单并进入产业化阶段
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